04.04.2022 • Technik

Vollständige Analyse von Spurenverunreinigungen in Prozessen

Photo

Die modulare Lösung zur vollständigen Analyse von Spurenverunreinigungen in Prozessen bietet dem Anwender sowohl die gleichzeitige Überwachung unterschiedlicher Spurengase als auch die Bestimmung von Feuchtigkeit und Sauerstoff. Die neue Entwicklung mit robustem 6U-Rackmount-Gehäuse ist für das Labor und die industrielle Installation ausgelegt. Typische Anwendungen sind die Überprüfung der Qualität von UHP- und Spezialgasen in der Halbleiter- und Elektronikfertigung sowie in ASU-Produktionsanlagen. Im Energiesektor eignet sich die neue Entwicklung für die Überwachung der Reinheit von Wasserstoff und Schwefelhexafluorid (SF6). Weitere Anwendungen sind die UHP-CO2-Analyse in der Lebensmittelproduktion und die Gasanalyse in Weinkellereien. Der Gaschromatograph kann mit FID/PED- oder TCD-Detektoren für Online-Spurenverunreinigungsmessungen konfiguriert werden und ist temperaturgesteuert, um zusätzliche Stabilität zu gewährleisten. Dank der beiden Probeneinlässe lassen sich zwei Gasströme parallel analysieren – er bietet also die gleiche Funktionalität wie zwei separate Geräte.

Anbieter

Logo:

Michell Instruments GmbH

Max-Planck-Str. 14
61381 Friedrichsdorf
Deutschland

Kontakt zum Anbieter







ReinRaumTechnik

Technikwissen für Reinräume in Forschung, Wissenschaft und Industrie

Technikwissen für Reinräume in Forschung, Wissenschaft und Industrie

Im Fokus stehen neueste Entwicklungen zu Reinraumbau und -planung, Lüftungstechnik, Partikelmonitoring sowie Reinraumbekleidung und -reinigung.

Themenspotlight

Wasserstoff für die Prozessindustrie

Wasserstoff für die Prozessindustrie

Wasserstoff gilt als eines der Schlüsselmoleküle für die Energiewende und die Transformation der Chemieindustrie. Lesen Sie gesammelt alle Inhalte rund um das Thema Wasserstoff in der Prozessindustrie.

Meist gelesen