Überwachung von Partikelverunreinigungen
Vacuum ist ein einzigartiges produktionsbegleitendes Kontaminationsmanagementsystem zur Überwachung von Partikelverunreinigungen in der Halbleiterindustrie. Das Produkt misst die Anzahl der Partikel in Wafer-Transportboxen (Front Opening Unified Pod, kurz FOUP, sowie Front Opening Shipping Box, kurz FOSB). Das patentierte vollautomatische Verfahren erkennt und zählt Teilchen auf der Oberfläche der Transportboxen einschließlich der Türen.
Das System wurde von führenden Halbleiterherstellern qualifiziert und kann sowohl in der Serienproduktion als auch zu Analysezwecken im Bereich Forschung & Entwicklung eingesetzt werden. Anwendungsschwerpunkte sind neben der Transportbox-Charakterisierung eine Optimierung der Dekontaminationsstrategie sowie die Qualitätskontrolle der Reinigung. Das trockene Verfahren (Dry Particle Counter) des ADPC zeigt eindeutige Vorteile gegenüber der herkömmlichen nassen Methode (Liquid Particle Counter). Sie ist in den Herstellungsprozess eingebunden und muss nicht außerhalb der Produktionszeit durchgeführt werden. Durch die vollautomatische Messung ist kein zusätzlicher Bediener erforderlich.
Pfeiffer Vacuum GmbH
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