Präzise Druckmessung für Reinraumprozesse in der Halbleiterfertigung
Honeywell stellt einen 13-mm-Drucksensor vor, der speziell für Reinraumumgebungen entwickelt wurde. Er gewährleistet präzise Messungen auch unter anspruchsvollen Bedingungen und erfüllt die hohen Reinheitsstandards der Halbleiterindustrie. Damit trägt er zur Prozesssicherheit und zur Reduzierung von Ausschuss bei.
Präzision unter Reinraumbedingungen
Der neue 13-mm-Drucksensor wurde für Anwendungen in Reinraumumgebungen konzipiert, wie sie in der Halbleiterfertigung üblich sind. Er ermöglicht zuverlässige Druckmessungen auch unter Hochdruck- und Hochtemperaturbedingungen und minimiert die Offset-Drift, die bei anderen Sensoren in Vakuumumgebungen auftreten kann. Der Sensor unterstützt die Verarbeitung verschiedener Gase, die in der Waferproduktion eingesetzt werden, und trägt dazu bei, dass Fertigungsprozesse stabil bleiben und Spezifikationen eingehalten werden.
Erfüllung strenger Reinheitsanforderungen
Der Sensor entspricht den Vorgaben der Halbleiterindustrie (SEMI F20) hinsichtlich Metallzusammensetzung und Oberflächenrauheit. Dadurch wird das Risiko von Verunreinigungen im Produktionsprozess reduziert. Dies führt zu weniger Defekten und einer höheren Ausbeute, was die Abfallrate bei Wafern senkt. Neben der Halbleiterfertigung eignet sich der Sensor auch für andere Branchen mit hohen Reinheitsanforderungen, darunter die Herstellung von Solarzellen, Displays, biopharmazeutischen Produkten sowie optischen und medizinischen Geräten.
